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东京大学大学院工学系?情报理工学系研究科第20回记者会见研究成果

东京大学大学院工学系?情报理工学系研究科第20回记者会见

日 时: 平成18年6月2日(金) 14:00~16:00

场 所: 工学部列品馆(本郷キャンパス、正门入ってすぐ左侧の建物)
大会议室(1阶)

プログラム:

○「高辉度放射光による界面劣化层の特定:梦の磁気デバイス実现に向けて」
       発表者:工学系研究科応用化学専攻教授 尾嶋 正治

○「ナノサイズの分子フラスコにおける特异な化学反応」
       発表者:工学系研究科応用化学専攻教授 藤田 誠

○「二酸化炭素からつくるプラスチック:新しい合成技术」
       発表者:工学系研究科化学生命工学専攻教授 野崎 京子
                        
问い合わせ先:

工学部広报室长(教授)堀井秀之
工学系研究科?情报理工学系総务课主査(総务担当)大井 哲
工学部広报室员(讲师)组头 広志
    

高辉度放射光による界面劣化层の特定:梦の磁気デバイス実现に向けて
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摆笔顿贵ファイル467碍叠闭
ナノサイズの分子フラスコにおける特异な化学反応
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摆笔顿贵ファイル375碍叠闭
二酸化炭素からつくるプラスチック:新しい合成技术
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摆笔顿贵ファイル185碍叠闭

 

 

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