东京大学大学院工学系?情报理工学系研究科第20回记者会见研究成果

东京大学大学院工学系?情报理工学系研究科第20回记者会见
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日 时: 平成18年6月2日(金) 14:00~16:00
场 所: 工学部列品馆(本郷キャンパス、正门入ってすぐ左侧の建物)
大会议室(1阶)
プログラム:
○「高辉度放射光による界面劣化层の特定:梦の磁気デバイス実现に向けて」
発表者:工学系研究科応用化学専攻教授 尾嶋 正治
○「ナノサイズの分子フラスコにおける特异な化学反応」
発表者:工学系研究科応用化学専攻教授 藤田 誠
○「二酸化炭素からつくるプラスチック:新しい合成技术」
発表者:工学系研究科化学生命工学専攻教授 野崎 京子
问い合わせ先:
工学部広报室长(教授)堀井秀之
工学系研究科?情报理工学系総务课主査(総务担当)大井 哲
工学部広报室员(讲师)组头 広志
高辉度放射光による界面劣化层の特定:梦の磁気デバイス実现に向けて | ![]() |
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ナノサイズの分子フラスコにおける特异な化学反応 | ![]() |
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二酸化炭素からつくるプラスチック:新しい合成技术 | ![]() |
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